BY-10硅片清洗剂

概述

本剂依据用户实际生产研制，适用于硅片的表面清洗处理，能有效清除太阳能硅片表面线切后残留的污染物，使硅片表面洁净均一。本剂呈碱性、液体、低泡、不含磷，单组份使用。本剂适应性强，能适用于多种工艺的手动、自动超声波清洗生产线。

典型工艺

1）循环去离子水预清洗（30-40℃，4~10分钟）

2）循环去离子水预清洗（30-40℃，4~10分钟）

3）BY-10清洗处理（40~70℃，4~10分钟）

4）BY-10清洗处理（40~70℃，4~10分钟）

5）循环去离子水漂洗（50~60℃,4~10分钟）

6）循环去离子水漂洗（50~60℃,4~10分钟）

7) 循环去离子水漂洗（60~70℃,4~10分钟）

8）甩干或隧道烘干或制绒

主要特点

1) 硅片表面不易产生过腐蚀,无发黑、发蓝现象。

2) 中温使用，成本低、速度快，效果好。

3) 清洗性能好，清洗后的硅片表面无残留。无发白现象，特别是制绒工艺后也无此现象。

4）配合超声波，清洗效果更佳。

5）清洗后一般能改善电性能，有助于提高转化率。

6）一般也能提高硅片表面的少子寿命、体寿命，有助于提高转化率。

工艺参数

1) 配槽浓度：2%（线切片厂用），0.5-1%（电池片厂用）

2) 槽液温度：40~70℃（一般45~65℃）

3) 处理时间：4~10分钟

配槽方法

1） 线切片厂：在清洗槽中加入80%的去离子水，称量加入的BY-10型硅片清洗剂，然后加入去离子水到工作液位，并搅拌循环均匀，加温至工作温度后，开启超声波进行清洗。

2） 电池片厂：在清洗槽中加入80%的去离子水，称量加入0.5~1%的BY-10型硅片清洗剂，然后加入去离子水到工作液位，并搅拌循环均匀，加温至工作温度后，开启超声波进行清洗。

维护控制

1) 工作液使用一段时间后，其清洗会下降，应及时添加，一般建议每清洗4000片添加1升BY-10型硅片清洗剂；电池片厂外购片一般每清洗6000至8000片添加1升BY-10型硅片清洗剂；有全自动预清洗工艺的一般每20000片添加1升BY-10型硅片清洗剂。

2) 清洗剂浓度过高，表面反应速度会加快，工作一段时间后，即可恢复正常。

3) 当清洗工作液中杂质过多时，槽液的清洗效果及超声波的效率会下降，应考虑更换工作液，一般按生产情况更换槽液一次。

注意事项

1) 清洗后的硅片应充分漂洗，水洗应保持循环溢流。

2) 应当每4小时监测一次，并及时添加，保证清洗效果。

3) 25公斤或2公斤塑料桶包装，存放在原包装里，本品的有效期为一年。

4) 注意操作安全，尽量减少皮肤、眼、嘴与清洗剂直接接触，若接触后应立即用大量清水冲洗。

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