BY-10硅片清洗剂
概述
本剂依据用户实际生产研制,适用于硅片的表面清洗处理,能有效清除太阳能硅片表面线切后残留的污染物,使硅片表面洁净均一。本剂呈碱性、液体、低泡、不含磷,单组份使用。本剂适应性强,能适用于多种工艺的手动、自动超声波清洗生产线。
典型工艺
1)循环去离子水预清洗(30-40℃,4~10分钟)
2)循环去离子水预清洗(30-40℃,4~10分钟)
3)BY-10清洗处理(40~70℃,4~10分钟)
4)BY-10清洗处理(40~70℃,4~10分钟)
5)循环去离子水漂洗(50~60℃,4~10分钟)
6)循环去离子水漂洗(50~60℃,4~10分钟)
7) 循环去离子水漂洗(60~70℃,4~10分钟)
8)甩干或隧道烘干或制绒
主要特点
1) 硅片表面不易产生过腐蚀,无发黑、发蓝现象。
2) 中温使用,成本低、速度快,效果好。
3) 清洗性能好,清洗后的硅片表面无残留。无发白现象,特别是制绒工艺后也无此现象。
4)配合超声波,清洗效果更佳。
5)清洗后一般能改善电性能,有助于提高转化率。
6)一般也能提高硅片表面的少子寿命、体寿命,有助于提高转化率。
工艺参数
1) 配槽浓度:2%(线切片厂用),0.5-1%(电池片厂用)
2) 槽液温度:40~70℃(一般45~65℃)
3) 处理时间:4~10分钟
配槽方法
1) 线切片厂:在清洗槽中加入80%的去离子水,称量加入的BY-10型硅片清洗剂,然后加入去离子水到工作液位,并搅拌循环均匀,加温至工作温度后,开启超声波进行清洗。
2) 电池片厂:在清洗槽中加入80%的去离子水,称量加入0.5~1%的BY-10型硅片清洗剂,然后加入去离子水到工作液位,并搅拌循环均匀,加温至工作温度后,开启超声波进行清洗。
维护控制
1) 工作液使用一段时间后,其清洗会下降,应及时添加,一般建议每清洗4000片添加1升BY-10型硅片清洗剂;电池片厂外购片一般每清洗6000至8000片添加1升BY-10型硅片清洗剂;有全自动预清洗工艺的一般每20000片添加1升BY-10型硅片清洗剂。
2) 清洗剂浓度过高,表面反应速度会加快,工作一段时间后,即可恢复正常。
3) 当清洗工作液中杂质过多时,槽液的清洗效果及超声波的效率会下降,应考虑更换工作液,一般按生产情况更换槽液一次。
注意事项
1) 清洗后的硅片应充分漂洗,水洗应保持循环溢流。
2) 应当每4小时监测一次,并及时添加,保证清洗效果。
3) 25公斤或2公斤塑料桶包装,存放在原包装里,本品的有效期为一年。
4) 注意操作安全,尽量减少皮肤、眼、嘴与清洗剂直接接触,若接触后应立即用大量清水冲洗。
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